邁博瑞 s

光刻工藝制程過(guò)濾解決方案

 

光刻工藝是指在光線(xiàn)(一般是紫外光、深紫外光、極紫外光)的作用下,借助光刻膠將掩膜版上的圖形轉移到基片上的技術(shù),光刻工藝是半導體制造中最為重要的工藝步驟之一。其成本約為整個(gè)硅片制造工藝的1/3,耗費時(shí)間約占整個(gè)硅片工藝的40~60%。在半導體制造領(lǐng)域,隨著(zhù)半導體加工的線(xiàn)寬越來(lái)越小,光刻工藝對極小污染物的控制苛刻到極致,不光對顆粒嚴格控制,對低析出物也有著(zhù)嚴苛的要求。邁博瑞使用先進(jìn)的設備工藝,生產(chǎn)出的產(chǎn)品具有優(yōu)秀的過(guò)濾效率,潔凈度以及化學(xué)耐受性以應對不同的SEMI光刻工藝應用

光刻工藝

 

光刻工藝制程過(guò)濾產(chǎn)品

制程工藝 邁博瑞推薦濾芯系列*
光刻膠過(guò)濾 Photo-Novel系列 專(zhuān)為光刻膠,有機溶劑等工藝中的過(guò)濾濾芯
Photo-Unix系列  UPE膜濾芯

*詳細的技術(shù)解決方案和產(chǎn)品系列信息,請聯(lián)系您身邊的MS銷(xiāo)售工程師

光刻工藝相關(guān)產(chǎn)品

相關(guān)資料

留言咨詢(xún)

如果您想要了解更多信息,您也可以留下聯(lián)系方式,并簡(jiǎn)單描述需求,邁博瑞將會(huì )有專(zhuān)人與您聯(lián)系

稱(chēng)呼:
電話(huà):
郵箱:
需求描述: