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半導體濕制程過(guò)濾解決方案

 

?半導體制造業(yè)面臨的最大挑戰之一是硅晶片的表面污染。研究表明,沾污帶來(lái)的缺陷引起的芯片電學(xué)失效,比例高達80%。假若在晶圓制造環(huán)節中有污染物未能完全清除,輕則影響晶圓良率,重則導致一整片乃至成批晶圓報廢,因此,半導體清洗工藝是半導體制程中最關(guān)鍵的步驟之一。濕法工藝作為半導體工藝的重要組成部分,通過(guò)化學(xué)品(酸、堿、溶劑等)與超純水等液體介質(zhì),對晶圓表面進(jìn)行刻蝕、清洗等處理,見(jiàn)下圖典型晶片清洗流程。

半導體Wet制程

邁博瑞的濾芯產(chǎn)品可以提供性能優(yōu)異的過(guò)濾解決方案,有專(zhuān)為半導體濕制程應用中的SC1,SC2,49HF,HNO3,EKC, NMP等液體過(guò)濾打造,開(kāi)發(fā)了很多適合于多種料液的應用濾芯,能夠有效地去除半導體工業(yè)用高純度化學(xué)品中的微粒,為提高半導體制程晶圓的良率保駕護航。

典型清洗槽工藝(以SC1 為例)

典型清洗槽工藝

半導體濕制程過(guò)濾產(chǎn)品

制程工藝 邁博瑞推薦濾芯系列*
半導體濕制程過(guò)濾 Wet-Fluoride系列全氟濾芯 半導體Wet濕制程用全氟濾芯
Wet-Fluoride系列全氟濾芯囊式 半導體Wet濕制程用全氟囊式濾芯
Wet-Vast系列  半導體Wet濕制程用HDPE外殼的PTFE折疊過(guò)濾濾芯
Wet-Mega系列 半導體Wet濕制程用PP外殼的PTFE折疊過(guò)濾濾芯
Clean-Nova系列 半導體Clean制程用HDPE外殼的PES折疊過(guò)濾濾芯
Clean-Nova系列PES濾芯囊式 半導體Clean制程用囊式濾芯
Clean-Gard系列 半導體Clean制程用PP外殼的PES折疊過(guò)濾濾芯

*詳細的技術(shù)解決方案和產(chǎn)品系列信息,請聯(lián)系您身邊的MS銷(xiāo)售工程師

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